特許

J-GLOBAL ID：200903091369205804

穿刺エレメントの製造方法

発明者： グリス、パトリック ,  ツィープフェル、マルツェリヌース ,  ロペツ、アンゲル
出願人/特許権者： エフ ホフマン-ラ ロッシュ アクチェン ゲゼルシャフト
代理人 (1件)： 朝日奈 宗太
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-545909
公開番号（公開出願番号）：特表2008-523855
出願日： 2005年12月10日
公開日（公表日）： 2008年07月10日
要約：

本発明は、マスク(24)を当てかつエッチング剤をそれに対して作用させることにより、平坦な形状の部材(12)が、平坦な材料(22)から形成され、そこでは、平坦な形状の部材(12)の少なくとも1部が、尖端(16、16’)として形成される穿刺エレメントの製造方法である。本発明によれば、マスク(24)には、形成される尖端(16、16’)用形成領域(30)と前面で尖端(16、16’)がエッチングされるのを防ぐために、この形成領域を越えて末端にまで伸びているスクリーニング領域(32)とが設けてあり、また鋭い尖端(16、16’)が、形成領域とスクリーニング領域(32)の側面(34、36)を横方向に切り落とすことにより暴露されることが提示される。

請求項（抜粋）：

マスク(24)を当てかつエッチング剤をそれに対して作用させることにより、平坦な形状の部材(12)が、平坦な材料(22)から形成され、そこでは、平坦な形状の部材(12)の少なくとも1部が、被験者の体内に穿刺するための尖端(16、16’)として形成される特に体液採取用の穿刺エレメントの製造方法であって、 マスク(24)には、尖端(16、16’)の形成領域(30)の前面で尖端(16、16’)がエッチングされるのを防ぐために、この形成領域を越えて末端にまで伸びているスクリーニング領域(32)とが設けてあることを特徴とし、また尖端(16、16’)が、形成領域とスクリーニング領域(32)の側面(34、36)を横方向に切り落とすことにより、暴露されることを特徴とする方法。

IPC (1件)：

A61B 5/15

FI (1件)：

A61B5/14 300J

Fターム (4件)：

4C038TA05 ,  4C038UE10 ,  4C038UH04 ,  4C038UH10

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平4-224038
  
• ダクトを有するシリコンの微細加工突起
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-561124   出願人：イギリス国
• 半導体基板内に垂直な中空針を形成する方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2001-549726   出願人：ザ・リージェンツ・オブ・ザ・ユニバーシティー・オブ・カリフォルニア