特許

J-GLOBAL ID：200903091389355110

重合体、重合体の製造方法、レジスト組成物およびパターン形成方法

発明者： 百瀬 陽 ,  大竹 敦 ,  藤原 匡之
出願人/特許権者： 三菱レイヨン株式会社
代理人 (4件)： 宮崎 昭夫 ,  金田 暢之 ,  伊藤 克博 ,  石橋 政幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-283901
公開番号（公開出願番号）：特開2005-048126
出願日： 2003年07月31日
公開日（公表日）： 2005年02月24日
要約：

【課題】 レジスト等の構成成分樹脂として有用な重合体、その製造方法、および、DUVエキシマレーザーリソグラフィー等において用いた場合に、高感度、高解像度であり、ドライエッチング耐性に優れたレジスト組成物、このレジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】 本発明の重合体は、下記式(1)で表される構成単位と、脂環ラクトン骨格を有する構成単位とを含有するものであり、このレジスト用重合体を含有するレジスト組成物を用いてレジストパターンを形成する。【化1】【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

下記式(1)で表される構成単位と、脂環ラクトン骨格を有する構成単位とを含有する重合体。

IPC (3件)：

C08F20/34 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

FI (3件)：

C08F20/34 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

Fターム (30件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AB14 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AB20 ,  2H025AC04 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA20P ,  4J100BA40P ,  4J100BC04P ,  4J100BC08P ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC53R ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100DA05 ,  4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 米国特許第6,165,678号明細書
  
• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-311568   出願人：富士写真フイルム株式会社
• レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-162398   出願人：富士通株式会社

審査官引用 (3件)

• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-311568   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-113462   出願人：ジェイエスアール株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-399235   出願人：ジェイエスアール株式会社