特許
J-GLOBAL ID：200903091463663840
生産ラインにおけるクリーンルーム構築方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
秋本 正実
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-068574
公開番号（公開出願番号）：特開平7-283089
出願日： 1994年04月06日
公開日（公表日）： 1995年10月27日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、ワークに複数の各種プロセス設備間を介して膜形成を行う生産ラインにおいて、生産規模に応じて任意かつ安価に生産ラインを編成することができる生産ラインにおけるクリーンルーム構築方法の提供。【構成】 微細加工処理される清浄度を要するワークを、複数の処理設備間に搬送設備を介して搬送し、かつ処理して膜形成が行われる生産ラインにおけるクリーンルーム構築方法において、前記膜形成の生産ラインを、微細加工処理を行う複数種類のプロセス設備により構成された異なるタイプの複数のモジュールにより編成し、該編成した各モジュールのプロセス設備、ワーク搬送設備およびワーク保管設備の各領域を、要求される清浄度レベルに応じて各独立の清浄度領域に区分して空調し、各モジュール単位にカセットクリーンルームを構築する。
請求項（抜粋）：
微細加工処理される清浄度を要するワークを、複数の処理設備間に搬送設備を介して搬送し、かつ処理して膜形成が行われる生産ラインにおけるクリーンルーム構築方法において、前記膜形成の生産ラインを、微細加工処理を行う複数種類のプロセス設備により構成された異なるタイプの複数のモジュールにより編成し、該編成した各モジュールのプロセス設備、ワーク搬送設備およびワーク保管設備の各領域を、要求される清浄度レベルに応じて各独立の清浄度領域に区分して空調し、各モジュール単位にカセットクリーンルームを構築することを特徴とする生産ラインにおけるクリーンルーム構築方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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