露光方法及びその装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：伊東忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-069002
公開番号（公開出願番号）：特開2000-267295
出願日： 1999年03月15日
公開日（公表日）： 2000年09月29日
要約：

【要約】【課題】本発明は、フィールドのつなぎ部分の寸法差及び段差の発生を防止し、かつ、露光時間が長くなることのない露光方法及びその装置を提供することを目的とする。【解決手段】初めのスキャンで露光されるフィールドのスキャン終了位置と、被露光基板を移動させて次のスキャンで露光されるフィールドのスキャン開始位置を重ねてつなぎ部分を露光する際に、初めのスキャンのスキャン終了位置での露光を不連続に行い、かつ、次のスキャンで露光されるフィールドのスキャン開始位置での露光を不連続に行う不連続露光手段15aを有する。このため、つなぎ部分では初めのスキャンの露光と次のスキャンの露光とが平均化され、つなぎ部分で寸法差及び段差が発生することを防止できる。

請求項（抜粋）：

レーザビームを回転するポリゴンで反射させてスキャンし、レンズを通して被露光基板に照射し露光を行う露光装置において、初めのスキャンで露光されるフィールドのスキャン終了位置と、前記被露光基板を移動させて次のスキャンで露光されるフィールドのスキャン開始位置を重ねてつなぎ部分を露光する際に、前記初めのスキャンのスキャン終了位置での露光を不連続に行い、かつ、前記次のスキャンで露光されるフィールドのスキャン開始位置での露光を不連続に行う不連続露光手段を有することを特徴とする露光装置。

IPC (4件)：

G03F 7/20 505 , G03F 7/20 521 , H01L 21/027 , H01J 11/00

FI (4件)：

G03F 7/20 505 , G03F 7/20 521 , H01J 11/00 Z , H01L 21/30 529

Fターム (23件)：

2H097AA03 , 2H097AA11 , 2H097BB01 , 2H097CA17 , 2H097KA28 , 5C040GC19 , 5C040GF19 , 5C040JA15 , 5C040JA36 , 5C040LA17 , 5C040MA24 , 5C040MA25 , 5F046BA07 , 5F046CA03 , 5F046CB01 , 5F046CB02 , 5F046CB12 , 5F046CB21 , 5F046CC01 , 5F046CC03 , 5F046CC06 , 5F046DA01 , 5F046DA07

引用特許：

審査官引用 (1件)

レーザ描画装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-052426 出願人：旭光学工業株式会社

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