特許
J-GLOBAL ID:200903091524735467

処理液の供給方法、処理液供給装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 森 哲也 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-222939
公開番号(公開出願番号):特開2001-052980
出願日: 1999年08月05日
公開日(公表日): 2001年02月23日
要約:
【要約】【課題】温度調節器を出た現像液が吐出装置に達するまでの流路が長い現像液供給方法において、次回の吐出までに長い待ち時間があっても、大量の現像液を排出することなく、所定温度に調節された現像液を吐出できるようにする。【解決手段】現像液の入った容器4と吐出装置3とを、三方形弁7を介して配管5,6で接続する。三方形弁7と容器4を分岐管8で接続する。配管5の容器4近くの位置に温度調節器9を設置する。容器4から配管5へ現像液を常時供給して、温度調節器9を通った現像液を配管5内に常時存在させる。吐出装置3から現像液を吐出しない時には、三方形弁7を調節して、温度調節された現像液を配管5から分岐管8へ向かわせ、容器4に戻す。現像液を吐出する時には、温度調節された現像液を配管5から主管6へ向かわせる。
請求項(抜粋):
処理液の供給源側で処理液を所定温度に調節し、この温度調節された処理液を所定長さの配管を通して吐出装置に供給する方法において、前記配管の吐出装置側の位置に分岐点を設けて、この配管の分岐点より下流側を分岐管と吐出装置に向かう主管とに分け、分岐点より下流側の処理液の流路を処理液の吐出時には主管に、処理液を吐出しない時には分岐管に切り換えるとともに、処理液供給源から前記配管への処理液の供給を常時行って、温度調節された処理液を、前記配管内の分岐点より上流側の部分に常時存在させることを特徴とする処理液の供給方法。
IPC (2件):
H01L 21/027 ,  G03F 7/30 501
FI (3件):
H01L 21/30 569 F ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/30 569 C
Fターム (5件):
2H096AA25 ,  2H096GA30 ,  5F046LA03 ,  5F046LA04 ,  5F046LA13
引用特許:
審査官引用 (5件)
  • 特開平4-330961
  • 特開平2-017968
  • フォトレジスト塗布装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-326998   出願人:ソニー株式会社
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