特許
J-GLOBAL ID:200903091553567077

レーザ走査光学系

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-040492
公開番号(公開出願番号):特開平9-211350
出願日: 1996年02月02日
公開日(公表日): 1997年08月15日
要約:
【要約】【課題】 副走査方向にビームピッチの変換を行っても、形成画像の品質低下が生じないレーザ走査光学系を提供する。【解決手段】 CPU24の指令で、ビームピッチ変換部25によって、複数のレーザビームを発生するレーザダイオードアレイ11の複数の発光部の副走査方向の発光間隔が変換されると、同期検知手段によって、発光部の主走査方向の基準位置が検知され、検知された基準位置に基づいて、書き出し位置補正部27によって、各発光部の主走査方向の書き出し位置の補正が行われ、レーザダイオードアレイ11の発光部の副走査方向の発光間隔が変換されても、画像が主走査方向に偏位変形することがなく、画素の高密度化に対応した高分解能で高品質の画像の画像形成を行うことが可能になる。
請求項(抜粋):
複数のレーザビームを発生するレーザダイオードアレイと、該レーザダイオードアレイの複数の発光部の副走査方向の発光間隔を変換する発光間隔変換手段と、前記発光部の主走査方向の基準位置を検知する同期検知手段と、前記発光部間隔変換手段による発光部間隔の変換時に、前記各発光部の主走査方向の書き出し位置の補正を行う書き出し位置補正手段とを有することを特徴とするレーザ走査光学系。
IPC (2件):
G02B 26/10 ,  B41J 2/44
FI (2件):
G02B 26/10 A ,  B41J 3/00 D
引用特許:
審査官引用 (6件)
  • 光走査装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-315151   出願人:株式会社リコー
  • 光走査装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-193137   出願人:キヤノン株式会社
  • マルチビーム光走査装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平6-108328   出願人:大日本スクリーン製造株式会社
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