特許

J-GLOBAL ID：200903091601812607

位置合わせ装置及びそれを用いた投影露光装置

発明者： 刑部 祐一 ,  小太刀 庸弘
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-323781
公開番号（公開出願番号）：特開平11-143087
出願日： 1997年11月10日
公開日（公表日）： 1999年05月28日
要約：

【要約】【課題】 レチクル面のパターンをウエハ面の投影レンズ系で投影露光する際、レチクルとウエハとの位置合わせを高精度に行った位置合わせ装置及びそれを用いた投影露光装置を得ること。【解決手段】 露光すべきパターンとアライメント用の複数のマークを有するレチクル、該レチクルのパターンが露光される感光基板を保持して移動可能な基板ステージ、該レチクルのパターンを該感光基板の被投影領域に結像投影させる投影光学系、該レチクル、基板ステージ、そして感光基板のうちの少なくとも1つの相対的な位置決めを行うためのマークを有し、該レチクルと該投影光学系間の光軸上に配置された平行平面ガラスとを有し、該平行平面ガラスに設けたマークを利用して該レチクル、基板ステージ、感光基板のうちの少なくとも1つの位置決めを行っていること。

請求項（抜粋）：

露光すべきパターンとアライメント用の複数のマークを有するレチクル、該レチクルのパターンが露光される感光基板を保持して移動可能な基板ステージ、該レチクルのパターンを該感光基板の被投影領域に結像投影させる投影光学系、該レチクル、基板ステージ、そして感光基板のうちの少なくとも1つの相対的な位置決めを行うためのマークを有し、該レチクルと該投影光学系間の光軸上に配置された平行平面ガラスとを有し、該平行平面ガラスに設けたマークを利用して該レチクル、基板ステージ、感光基板のうちの少なくとも1つの位置決めを行っていることを特徴とする位置合わせ装置。

IPC (2件)：

G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 508 Z

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-017647   出願人：株式会社ニコン
• 投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-017648   出願人：株式会社ニコン
• 露光装置および露光方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-216082   出願人：キヤノン株式会社

審査官引用 (3件)

• 露光装置および露光方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-216082   出願人：キヤノン株式会社
• 露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-017647   出願人：株式会社ニコン
• 投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-017648   出願人：株式会社ニコン