特許

J-GLOBAL ID：200903091632553006

防汚性薄膜の形成方法

発明者： 渡辺 弘樹 ,  富川 典俊 ,  伊藤 学
出願人/特許権者： 凸版印刷株式会社
代理人 (1件)： 田治米 登 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-167073
公開番号（公開出願番号）：特開平11-012375
出願日： 1997年06月24日
公開日（公表日）： 1999年01月19日
要約：

【要約】【課題】 防汚性薄膜を制御性よく安定的に形成する。また、反射防止膜等の光学部材を被処理基材とした場合でも、その光学部材の光学的性質が損なわれないように均一な薄膜に形成する。【解決手段】 防汚性薄膜を、被処理基材1の表面をフルオロアルキルシラン2のモノマー蒸気に曝し、該表面に真空紫外光Lを照射し、フルオロアルキルシラン2の薄膜を形成することにより形成する。

請求項（抜粋）：

被処理基材の表面をフルオロアルキルシランのモノマー蒸気に曝しながら該表面に真空紫外光を照射し、フルオロアルキルシランの薄膜を形成することを特徴とする防汚性薄膜の形成方法。

IPC (5件)：

C08J 7/04 ,  C23C 16/48 ,  G02B 1/10 ,  G02B 1/12 ,  C08J 7/18

FI (5件)：

C08J 7/04 M ,  C23C 16/48 ,  G02B 1/12 ,  C08J 7/18 ,  G02B 1/10 Z

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 物体の表面処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-076857   出願人：株式会社シンクロン