特許
J-GLOBAL ID：200903091639115101

プラズマ処理装置、プラズマ処理方法および終点検出方法

発明者：
壁 義郎

壁 義郎 について

, 
太田 欣也

太田 欣也 について

, 
北川 淳一

北川 淳一 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (2件)： 渡邊 和浩 ,  星宮 勝美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-220549
公開番号（公開出願番号）：特開2009-054818
出願日： 2007年08月28日
公開日（公表日）： 2009年03月12日
要約：
【課題】 プラズマ処理において、その終点を精度よく検出する。【解決手段】 プラズマ処理装置100は、チャンバー1内でプラズマを生成させるプラズマ生成手段と、被処理体(ウエハW)へ向けて移動するプラズマ中の活性種の粒子数の積算値を計測する計測部60と、計測された粒子数の積算値が設定値に達した場合に、プラズマ処理を終了させるように制御する制御部50と、を備えている。計測部60は、光源部61から所定のレーザー光をプラズマへ向けて照射し、VUVモノクロメーターを備えた検知部63で受光することにより活性種の粒子数を測定する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
被処理体をプラズマ処理する処理室と、 前記処理室内でプラズマを生成させるプラズマ生成手段と、 前記プラズマ中に含まれ、被処理体へ向けて移動する活性種の粒子数の積算値を計測する計測手段と、 前記積算値が設定値に達した場合に、プラズマ処理を終了させるように制御する制御手段と、 を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/31 ,  H01L 21/316 ,  H01L 21/318 ,  H01L 21/306
FI (4件)：
H01L21/31 A ,  H01L21/316 A ,  H01L21/318 A ,  H01L21/302 103
Fターム (33件)：
5F004AA01 ,  5F004BA20 ,  5F004BB03 ,  5F004BB11 ,  5F004BB14 ,  5F004BB29 ,  5F004CA02 ,  5F004CA03 ,  5F004CA04 ,  5F004CB02 ,  5F004CB03 ,  5F004CB15 ,  5F004DA23 ,  5F004DA26 ,  5F004DA30 ,  5F045AA09 ,  5F045AA20 ,  5F045AB32 ,  5F045AB33 ,  5F045BB01 ,  5F045EH02 ,  5F045EH03 ,  5F045EH04 ,  5F045EH19 ,  5F045GB08 ,  5F058BA06 ,  5F058BC02 ,  5F058BC08 ,  5F058BF73 ,  5F058BF74 ,  5F058BG01 ,  5F058BG02 ,  5F058BG03
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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