特許

J-GLOBAL ID：200903091748832115

洗浄装置

発明者： 阿藤 浩司
出願人/特許権者： 株式会社荏原製作所
代理人 (1件)： 渡邉 勇 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-034347
公開番号（公開出願番号）：特開平11-219930
出願日： 1998年01月30日
公開日（公表日）： 1999年08月10日
要約：

【要約】【課題】 スクラビング洗浄やスピン乾燥等を行う枚葉式の洗浄装置に半導体ウエハの基準位置を検出するセンサを設け、半導体ウエハの基準位置を所定の方向に合わせて停止させる機能及び/又は半導体ウエハの回転速度を直接検知する機能を有した洗浄装置を提供する。【解決手段】 半導体ウエハ1を回転させながら洗浄及び/又は乾燥を行う枚葉式の洗浄装置において、半導体ウエハ1を保持して回転させる回転機構11と、半導体ウエハ1のノッチ1aの位置を検出するセンサ20とを備えた。

請求項（抜粋）：

半導体ウエハを回転させながら洗浄及び/又は乾燥を行う枚葉式の洗浄装置において、前記半導体ウエハを保持して回転させる回転機構と、前記半導体ウエハの基準位置を検出するセンサとを備えたことを特徴とする洗浄装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 651 ,  H01L 21/304 644 ,  B08B 3/02

FI (3件)：

H01L 21/304 651 B ,  H01L 21/304 644 C ,  B08B 3/02 B

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-116390   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
• 回転式基板処理装置における基板の有無検出装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-355185   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• ウエ-ハ枚葉洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-227864   出願人：株式会社エンヤシステム
• 特開平2-205028