特許

J-GLOBAL ID：200903091832119220

ポジ型レジスト組成物

発明者： 羽田 英夫 ,  佐藤 和史 ,  駒野 博司 ,  中山 寿昌
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 阿形 明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-200017
公開番号（公開出願番号）：特開平10-115925
出願日： 1997年07月25日
公開日（公表日）： 1998年05月06日
要約：

【要約】【課題】 ArFエキシマレーザー光に対する透明性が高く、かつ感度、レジストパターン形状、耐ドライエッチング性、密着性が優れた化学増幅型のポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 (A)酸の作用によりアルカリに対する溶解性が変化するアクリル系樹脂及び(B)酸発生剤を含有するポジ型レジスト組成物において、前記(A)成分のアクリル系樹脂が、構成単位として、ヒドロキシビシクロ[3.1.1]ヘプタノン又はその低級アルキル置換体のアクリル酸又はメタクリル酸エステルから誘導される単位を含む重合体又は共重合体を使用する。

請求項（抜粋）：

(A)酸の作用によりアルカリに対する溶解性が変化するアクリル系樹脂及び(B)酸発生剤を含有するポジ型レジスト組成物において、前記(A)成分のアクリル系樹脂が、構成単位として、ヒドロキシビシクロ[3.1.1]ヘプタノン又はその低級アルキル置換体のアクリル酸又はメタクリル酸エステルから誘導される単位を含む重合体又は共重合体であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027 ,  C08F 20/04 ,  C08F 20/12 ,  C08F 20/28

FI (5件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F 20/04 ,  C08F 20/12 ,  C08F 20/28 ,  H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (2件)

• ホログラム記録材料、ホログラム記録媒体およびそれを用いたホログラムの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-326968   出願人：東洋インキ製造株式会社
• 感光性材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-185046   出願人：株式会社東芝