特許
J-GLOBAL ID:200903091836697007

高分子非線形光学材料の製造方法および高分子非線形光学材料

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大川 宏
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-299771
公開番号(公開出願番号):特開平8-160477
出願日: 1994年12月02日
公開日(公表日): 1996年06月21日
要約:
【要約】【目的】 高分子非線形光学材料の屈折率を調整した材料とすることを目的とする。【構成】 高分子のマトリックス形成成分と、π電子共役系に少なくとも1つの電子供与基と少なくとも1つの電子吸引基とが結合した光学的非線形性成分と、を共重合させてなる高分子非線形光学材料の製造方法において、重合に際して屈折率増大化成分または屈折率減少化成分からなる屈折率調整成分を制御された比率で該光学的非線形性成分と共に該高分子マトリックス形成成分に共重合させることを特徴とする高分子非線形光学材料の製造方法。および、高分子マトリックスと光学的非線形性成分と屈折率を増大または低減させる屈折率調整成分とを含み、光学的非線形性成分および該屈折率調整成分が制御された比率で高分子マトリックス中に分散していることを特徴とする高分子非線形光学材料。
請求項(抜粋):
高分子のマトリックス形成成分と、π電子共役系に少なくとも1つの電子供与基と少なくとも1つの電子吸引基とが結合した光学的非線形性成分と、を共重合させてなる高分子非線形光学材料の製造方法において、重合に際して屈折率増大化成分または屈折率減少化成分からなる屈折率調整成分を制御された比率で該光学的非線形性成分と共に該高分子マトリックス形成成分に共重合させることを特徴とする高分子非線形光学材料の製造方法。
IPC (3件):
G02F 1/35 504 ,  C08F 2/00 MAD ,  C08L101/12 LTB
引用特許:
審査官引用 (6件)
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