特許
J-GLOBAL ID：200903091911811384
CAD装置、CADデータ生成方法、及びCADデータ生成プログラム
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
川井 隆
, 仲野 均
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-284955
公開番号（公開出願番号）：特開2004-118784
出願日： 2002年09月30日
公開日（公表日）： 2004年04月15日
要約：
【課題】平面図の変更を立面図に適切に反映することができるCAD装置などを提供すること。【解決手段】平面図を作成し、平面図中の図面要素の高さ情報などから第1の立面図を自動生成する。そして、これを加筆修正して編集し、編集後の第1の立面図を完成させる。この編集後の第1の立面図は退避手段により記憶装置に退避しておく。次に平面図を変更し、変更後の平面図から第2の立面図を自動生成する。編集後の第1の立面図において、ユーザが平面図の変更箇所に対応する閉領域を指定すると、CAD装置は、これに対応する対応領域を第2の立面図で特定する。次いで、CAD装置は、編集後の第1の立面図においては、閉領域内を削除し、第2の立面図においては、対応領域外を削除し、これら削除済みの編集後の第1の立面図と第2の立面図を合成する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
内部構造、外観、断面など、構造物の構成を所定の基準投影面で図示した元図面を用いて前記構造物を他の投影面にて図示した第1の図面を自動生成する第1の生成手段と、
前記自動生成した第1の図面を編集する編集手段と、
前記元図面の少なくとも一部を変更する変更手段と、
前記変更した変更後の元図面を用いて前記構造物の前記他の投影面にて図示した第2の図面を自動生成する第2の生成手段と、
前記編集した編集後の第1の図面、又は前記第2の図面において領域を指定する領域指定手段と、
前記編集後の第1の図面と前記第2の図面を合成する合成手段と、
を具備したCAD装置であって、
前記合成手段は、前記領域指定手段で、前記変更手段で変更した箇所に対応する領域を指定した場合は、前記指定した領域外に対応する前記編集後の第1の図面と、前記指定した領域内に対応する前記第2の図面を合成し、又は、前記領域指定手段で、前記編集手段で編集した箇所に対応する領域を指定した場合は、前記指定した領域内に対応する前記編集後の第1の図面と、前記指定した領域外に対応する前記第2の図面を合成することを特徴とするCAD装置。
IPC (1件)：
FI (2件)：
G06F17/50 624G
, G06F17/50 680B
5B046AA03
, 5B046DA09
, 5B046DA10
