特許
J-GLOBAL ID：200903091918139398
マスターホログラムおよびその製造方法、並びに当該マスターホログラムを用いた位相型体積ホログラム光学素子の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人原謙三国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-174382
公開番号（公開出願番号）：特開2006-349874
出願日： 2005年06月14日
公開日（公表日）： 2006年12月28日
要約：
【課題】 単一のレーザ光源を用いて一回の露光で位相型体積ホログラム光学素子にRGB等のパターンを記録することができ、ひいては簡便かつ少ない部品数でホログラムの複製を行うことができるマスターホログラムおよびその製造方法、並びに当該マスターホログラムを用いた位相型体積ホログラム光学素子の製造方法を提供する。【解決手段】 マスターホログラム1は、第一の要素ホログラム2R・2G・2Bを有する第一の透過型ホログラム2と、第二の要素ホログラム2R・2G・2Bを有する第二の透過型ホログラム3とを備えている。第一の透過型ホログラム2と第二の透過型ホログラム3とが互いに積層された二層構造である。第一の要素ホログラム2R・2G・2B及び第二の要素ホログラム2R・2G・2Bは、ホログラム複製用の感光性材料4に入射する、第一の光束9及び第二の光束10の入射角をそれぞれ制御するように形成されている。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
ホログラムを複製するために用いるマスターホログラムにおいて、
複数の第一の要素ホログラムを有する第一の透過型ホログラムと、上記第一の要素ホログラムとは異なる、複数の第二の要素ホログラムを有する第二の透過型ホログラムとを備え、
上記第一の透過型ホログラムと上記第二の透過型ホログラムとが互いに積層されていることを特徴とするマスターホログラム。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (5件)：
2K008AA04
, 2K008BB04
, 2K008DD03
, 2K008EE01
, 2K008FF17
