特許
J-GLOBAL ID:200903091982886890

気相成長装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 木戸 一彦 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-236621
公開番号(公開出願番号):特開2001-068415
出願日: 1999年08月24日
公開日(公表日): 2001年03月16日
要約:
【要約】【課題】 観察窓を介しての温度測定等を確実に行えるとともに、チャンバ内の熱的環境の経時変化も抑制することができる気相成長装置を提供する。【解決手段】 チャンバ4の内壁や観察窓11の一部を熱反射率の低い材料、例えばカーボン板21で遮蔽する。
請求項(抜粋):
フローチャンネルを収納した金属製チャンバに光学観察用の観察窓を備えた気相成長装置において、前記チャンバの内壁を熱反射率の低い材料で遮蔽したことを特徴とする気相成長装置。
IPC (2件):
H01L 21/205 ,  C23C 16/44
FI (2件):
H01L 21/205 ,  C23C 16/44 B
Fターム (14件):
4K030BA08 ,  4K030BA38 ,  4K030KA08 ,  4K030KA37 ,  4K030KA39 ,  4K030KA45 ,  5F045AB14 ,  5F045AD15 ,  5F045BB02 ,  5F045BB08 ,  5F045DP04 ,  5F045EC03 ,  5F045EC05 ,  5F045EK07
引用特許:
審査官引用 (6件)
  • 特開平3-238326
  • 半導体製造装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-114269   出願人:株式会社日立製作所
  • 気相化学反応装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-181918   出願人:バブコック日立株式会社
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