特許
J-GLOBAL ID:200903091999537317
光酸発生剤単量体の組成物、該組成物でコーティングされた基板、該組成物を利用して基板上に化合物を合成する方法及び該方法によって製造されたマイクロアレイ
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (5件):
八田 幹雄
, 奈良 泰男
, 齋藤 悦子
, 宇谷 勝幸
, 藤井 敏史
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-245932
公開番号(公開出願番号):特開2005-099005
出願日: 2004年08月25日
公開日(公表日): 2005年04月14日
要約:
【課題】 光酸発生剤単量体の組成物、該組成物でコーティングされた基板、該光酸発生剤単量体の組成物を利用して基板上に化合物を合成する方法及び該方法によって製造されたマイクロアレイを提供する。【解決手段】 酸に不安定な保護基を有する第1分子層を固体基板上に結合させ、前記第1分子層上に前記単量体PAGの組成物層をコーティングする方法。次に、前記組成物層を露光させ、熱処理して露光された部分に対応する前記第1分子から酸に不安定な保護基を除去し、前記単量体PAGの組成物層を洗浄して除去する。活性化された前記第1分子に第2分子を結合させる。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
光酸発生剤単量体及び非イオン性界面活性剤を含む光酸発生剤単量体の組成物。
IPC (10件):
G01N33/53
, C09D5/00
, C09D7/12
, C09D157/08
, C12M1/00
, C12N15/09
, G01N33/545
, G01N33/552
, G01N37/00
, H01L21/027
FI (11件):
G01N33/53 M
, G01N33/53 D
, C09D5/00 Z
, C09D7/12
, C09D157/08
, C12M1/00 A
, G01N33/545 Z
, G01N33/552
, G01N37/00 102
, H01L21/30 502R
, C12N15/00 F
Fターム (21件):
4B024AA11
, 4B024CA01
, 4B024CA09
, 4B024CA11
, 4B024HA11
, 4B024HA19
, 4B029AA07
, 4B029AA27
, 4B029BB15
, 4B029BB20
, 4B029CC03
, 4B029FA12
, 4B029FA15
, 4J038BA182
, 4J038CF011
, 4J038CG001
, 4J038GA12
, 4J038KA03
, 4J038PA17
, 4J038PC03
, 4J038PC08
引用特許:
出願人引用 (4件)
-
米国特許第5,445,934号明細書
-
米国特許第5,744,305号明細書
-
米国特許第5,658,734号明細書
-
米国特許第6,359,125号明細書
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審査官引用 (2件)
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