特許

J-GLOBAL ID：200903092003417295

被処理物保持体およびそれを搭載したウェハプローバ

発明者： 板倉 克裕 ,  夏原 益宏 ,  仲田 博彦
出願人/特許権者： 住友電気工業株式会社
代理人 (3件)： 中野 稔 ,  山口 幹雄 ,  二島 英明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-125983
公開番号（公開出願番号）：特開2006-303339
出願日： 2005年04月25日
公開日（公表日）： 2006年11月02日
要約：

【課題】高剛性であり、安価で、簡単な構造の被処理物保持体を提供する。また、該被処理物保持体を搭載したウェハプローバ装置を提供する。【解決手段】被処理物を真空吸着により載置するための載置面2を備えた被処理物保持体1であって、前記保持体1の載置面2とその反対側の面3とを連通する貫通孔4を備え、更に前記被処理物保持体1の載置面2の反対側面3に、凹部5が形成され、該凹部5を被覆する被覆部材6を有する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

被処理物を真空吸着により載置するための載置面を備えた被処理物保持体であって、前記保持体の載置面とその反対側の面とを連通する貫通孔を備え、更に前記被処理物保持体の載置面の反対側面に、凹部が形成され、該凹部を被覆する被覆部材を有することを特徴とする被処理物保持体。

IPC (2件)：

H01L 21/683 ,  H01L 21/66

FI (4件)：

H01L21/68 P ,  H01L21/66 B ,  H01L21/66 D ,  H01L21/66 H

Fターム (15件)：

4M106AA01 ,  4M106AA02 ,  4M106BA01 ,  4M106CA01 ,  4M106CA27 ,  4M106CA56 ,  4M106DJ02 ,  5F031CA02 ,  5F031HA02 ,  5F031HA14 ,  5F031HA37 ,  5F031HA38 ,  5F031MA33 ,  5F031PA18 ,  5F031PA30

引用特許：

出願人引用 (1件)

• ウエハプローバ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-201789   出願人：イビデン株式会社