特許
J-GLOBAL ID：200903092072043984

識別情報記録方法およびフォトマスクセット

発明者：
廣岡 泰典

廣岡 泰典 について


出願人/特許権者：
住友特殊金属株式会社

住友特殊金属株式会社 について


代理人 (1件)： 奥田 誠司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-226944
公開番号（公開出願番号）：特開2003-131391
出願日： 2002年08月05日
公開日（公表日）： 2003年05月09日
要約：
【要約】【課題】 多様な識別情報を少ないフォトマスクを用いて板状部材に記録す。【解決手段】 複数の板状部材に対して相互に異なる識別情報を記録する。識別情報は1桁以上の文字列であり、(a)文字列が記録されるべきブランク領域を規定する遮光パターン62bを有する第1フォトマスク62と、文字列に用いられる2種類以上の文字を規定する遮光パターンを有する第2フォトマスクを用意する工程と、(b)板状部材60の表面にフォトレジスト層61を形成する工程と、(c)第1フォトマスク62を用い、フォトレジスト層61におけるブランク領域以外の領域を露光する工程と、(d)第2フォトマスクを用い、フォトレジスト層61のブランク領域に対して、文字列を構成する2種類以上の文字の潜像を形成する工程とを行う。
請求項（抜粋）：
複数の板状部材に対して相互に異なる識別情報を記録する方法であって、前記識別情報は、1桁以上の文字列であり、(a)前記文字列が記録されるべきブランク領域を規定する遮光パターンを有する第1フォトマスクと、前記文字列に用いられる2種類以上の文字を規定する遮光パターンを有する第2フォトマスクを用意する工程と、(b)前記板状部材の表面にフォトレジスト層を形成する工程と、(c)前記第1フォトマスクを用い、前記フォトレジスト層における前記ブランク領域以外の領域を露光する工程と、(d)前記第2フォトマスクを用い、前記フォトレジスト層の前記ブランク領域に対して、前記文字列を構成する2種類以上の文字の潜像を形成する工程と、を包含する方法。
IPC (4件)：
G03F 7/20 501 ,  G03F 1/08 ,  G11B 5/31 ,  H01L 21/027
FI (5件)：
G03F 7/20 501 ,  G03F 1/08 R ,  G11B 5/31 G ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 502 G
Fターム (13件)：
2H095BA02 ,  2H095BA03 ,  2H095BE04 ,  2H097GA45 ,  2H097GB00 ,  2H097LA20 ,  5D033BA51 ,  5D033DA07 ,  5D033DA31 ,  5F046AA16 ,  5F046AA25 ,  5F046CB17 ,  5F046DD03
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • 特開平4-102214
  • 特開昭62-296422
  • 薄膜磁気ヘッド用基板
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-289699   出願人：京セラ株式会社

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