特許
J-GLOBAL ID：200903092085403203

プラズマ処理装置

発明者：
原口 秀夫

原口 秀夫 について


出願人/特許権者：
松下電器産業株式会社

松下電器産業株式会社 について


代理人 (1件)： 青山 葆 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-086367
公開番号（公開出願番号）：特開2003-282548
出願日： 2002年03月26日
公開日（公表日）： 2003年10月03日
要約：
【要約】【課題】 高速で信頼性の高い真空容器に対する搬入出を行うことができるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】 プラズマ処理装置は、基板が収容された真空容器30の内部空間である真空処理室34にガスを導入すると共に排出しつつプラズマ75を発生させ、このプラズマ75により基板を処理する。真空容器30は、分離可能な上側部31と下側部32とからなる。昇降機構は、下側部32を、上側部31に対して当接させて真空処理室34を閉鎖させる上昇位置と、上側部31に対して離反させて真空処理室34を開放する降下位置とに移動させる。真空処理室34の降下時には真空容器30の水平方向全周で真空処理室と外部空間とが連通する。
請求項（抜粋）：
真空を維持することが可能な真空容器と、前記真空容器内にあり、プラズマによって処理される基板が載置される基板保持台と、前記真空容器の外側に配置されたコイルに高周波電力を印加する高周波電源と、真空容器内にガスを供給しつつ排気するガス供給装置からなるプラズマ処理装置であって、上記真空容器は、分離可能な上側部と下側部とからなり、上記下側部を、上記上側部に対して当接させて上記真空処理室を閉鎖する上昇位置と、上記上側部に対して離反させて上記真空処理室を開放する降下位置とに移動させる昇降機構を備えることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/3065 ,  C23C 16/44 ,  C23C 16/507 ,  H01L 21/205
FI (4件)：
C23C 16/44 B ,  C23C 16/507 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 101 C
Fターム (20件)：
4K030EA05 ,  4K030FA04 ,  4K030GA02 ,  4K030GA12 ,  4K030KA08 ,  4K030KA22 ,  5F004AA16 ,  5F004BA20 ,  5F004BB18 ,  5F004BB24 ,  5F004BB28 ,  5F004BD04 ,  5F004CA05 ,  5F045DP03 ,  5F045DQ10 ,  5F045EB02 ,  5F045EF04 ,  5F045EH11 ,  5F045EM10 ,  5F045EN01
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • プラズマプロセス装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-300979   出願人：ノベラス・システムズ・インコーポレイテッド
  • 特開昭60-100687
審査官引用 (2件)
  • プラズマプロセス装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-300979   出願人：ノベラス・システムズ・インコーポレイテッド
  • 特開昭60-100687

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