特許
J-GLOBAL ID：200903092095011613

撥水性構造体、その製造方法、インクジェット記録ヘッド及びインクジェット記録装置

発明者：
柄沢 康史

柄沢 康史 について

, 
跡部 光朗

跡部 光朗 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (1件)： 鈴木 喜三郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-026786
公開番号（公開出願番号）：特開2000-226570
出願日： 1999年02月03日
公開日（公表日）： 2000年08月15日
要約：
【要約】【課題】 撥水性が長期間に渡って持続される撥水性構造体を提供する。【解決手段】 本発明の撥水性構造体100は、基材11表面に形成された凹凸構造(凹部17、凸部18)を有する撥水性構造体であって、この凹凸構造表面に撥水膜19が形成され、この撥水膜の膜厚が10nm以上である。
請求項（抜粋）：
基材表面に形成された凹凸構造を有する撥水性構造体であって、この凹凸構造の表面には撥水膜が形成され、この撥水膜の膜厚が10nm以上であることを特徴とする撥水性構造体。
IPC (5件)：
C09K 3/18 102 ,  C09K 3/18 104 ,  B41J 2/045 ,  B41J 2/055 ,  B41J 2/135
FI (4件)：
C09K 3/18 102 ,  C09K 3/18 104 ,  B41J 3/04 103 A ,  B41J 3/04 103 N
Fターム (13件)：
2C057AF21 ,  2C057AF70 ,  2C057AF93 ,  2C057AG07 ,  2C057AG22 ,  2C057AP02 ,  2C057AP13 ,  2C057AP32 ,  2C057AP57 ,  2C057AP60 ,  2C057AQ02 ,  4H020BA32 ,  4H020BA36
引用特許：
審査官引用 (4件)
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