特許
J-GLOBAL ID:200903092105694340
走査型投影露光方法及び走査型投影露光装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
畑 泰之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-271227
公開番号(公開出願番号):特開2000-100709
出願日: 1998年09月25日
公開日(公表日): 2000年04月07日
要約:
【要約】【課題】 自重によりレチクルにたわみが生じても良好な投影露光ができる走査型投影露光装置を提供することにある。【解決手段】 レチクルに形成されたパターンを投影露光学系を介してウエハステージのウエハ上に投影する走査型投影露光方法において、レチクルの自重による各部位のたわみ量を予め測定し、そのたわみ量を記憶手段に記憶させた後、走査露光時にその記憶データにしたがってウエハ上の投影位置を調整するべくウエハステージを上下動させるので、自重によりレチクルにたわみが生じても良好な投影露光が出来る。
請求項(抜粋):
レチクルに形成されたパターンを投影露光学系を介してウエハステージのウエハ上に投影する走査型投影露光方法において、レチクルの自重による各部位のたわみ量を予め測定し、そのたわみ量を記憶手段に記憶させた後、走査露光時にその記憶データにしたがってウエハ上の投影位置を調整するべくウエハステージを上下動させる事を特徴とする走査型投影露光方法。
IPC (3件):
H01L 21/027
, G03F 7/207
, G03F 7/23
FI (4件):
H01L 21/30 518
, G03F 7/207 H
, G03F 7/23 H
, H01L 21/30 516 B
Fターム (7件):
5F046AA25
, 5F046BA05
, 5F046CB17
, 5F046CC01
, 5F046CC05
, 5F046DA14
, 5F046DB05
引用特許:
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