特許
J-GLOBAL ID:200903092117024633

光学装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 青山 葆 (外2名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-574521
公開番号(公開出願番号):特表2003-530589
出願日: 2001年04月06日
公開日(公表日): 2003年10月14日
要約:
【要約】2次元に延びる光子バンドギャップを有すると共に、いずれの方向といずれの分極状態においても非常に均一な特性(1%以内)を有する光学装置を製造するために、低屈折率材料(例えば、シリコンオキシニトライドまたはシリカガラス等)製支持体の内部にエアホールをエッチングによって形成させる。基体の残余部に対するエアホールの面積比は小さく、35%よりも小さい。エアホールは、正方形-三角形系に基づき、12回対称性を有する準結晶構造を限定する。別の態様においては、正規の結晶構造または準結晶構造を有する蝕刻された支持体は非線形屈折率を示す。このような支持体内の2つの隣接領域は異なる格子特性を示すか、または格子内に欠陥を有するために、一方向性の透過経路(ダイオード作用)をもたらす。非線形屈折率を理由として、光の別のビームを使用することによって、該透過経路を変調してもよい。
請求項(抜粋):
(i)二次元に延びる材料を供給し、次いで(ii)該材料中に、第1屈折率を有する複数の第1領域を、第2屈折率を有する1または複数の第2領域を介して間隔をおいて配置された状態で形成させることを含む、光子バンドギャップを示す構造体の形成法であって、これらの領域が長距離規則性と短期不規則性を示す準結晶を限定すると共にn回(nは2またはそれよりも大きな数を表わす)の対称性を示すことによって、少なくとも該二次元に延びる光子バンドギャップをもたらす、該構造体の形成法。
IPC (4件):
G02B 1/02 ,  G02B 6/12 ,  G02F 1/31 ,  G02F 1/35
FI (5件):
G02B 1/02 ,  G02F 1/31 ,  G02F 1/35 ,  G02B 6/12 Z ,  G02B 6/12 N
Fターム (18件):
2H047KA01 ,  2H047NA08 ,  2H047QA01 ,  2H047QA02 ,  2H047QA04 ,  2H047RA08 ,  2K002AB04 ,  2K002AB40 ,  2K002BA01 ,  2K002BA06 ,  2K002BA11 ,  2K002CA13 ,  2K002CA15 ,  2K002DA10 ,  2K002DA20 ,  2K002HA03 ,  2K002HA09 ,  2K002HA16
引用特許:
審査官引用 (2件)

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