特許

J-GLOBAL ID：200903092123278230

単分子膜形成装置

発明者： 逢坂 哲彌 ,  笹野 順司 ,  富永 浩二 ,  佐竹 大輔 ,  野村 聡
出願人/特許権者： 株式会社堀場製作所
代理人 (3件)： 西村 竜平 ,  佐藤 明子 ,  齊藤 真大
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-076431
公開番号（公開出願番号）：特開2009-256795
出願日： 2009年03月26日
公開日（公表日）： 2009年11月05日
要約：

【課題】成膜室2内における成膜面W1上の熱対流を抑制することにより、成膜面W1への自己組織化単分子の吸着ムラを無くし、緻密な自己組織化単分子膜を形成する。【解決手段】自己組織化単分子を含有する成膜原料を気化し、基板Wの成膜面W1上に自己組織化単分子膜を形成する単分子膜形成装置1であって、内部に基板Wが設けられる成膜室2と、前記成膜室2内に自己組織化単分子を含有する成膜原料を気化して供給する原料供給機構3と、前記成膜室2内に保持された基板Wの成膜面W1上の対流を制限する対流制限構造8と、を具備する【選択図】図1

請求項（抜粋）：

自己組織化単分子を含有する成膜原料を気化し、基板の成膜面上に自己組織化単分子膜を形成する単分子膜形成装置であって、 内部に基板が設けられる成膜室と、 前記成膜室内に自己組織化単分子を含有する成膜原料を気化して供給する原料供給機構と、 前記成膜室内に保持された基板の成膜面上の対流を制限する対流制限構造と、 を具備する単分子膜形成装置。

IPC (3件)：

C23C 14/12 ,  C23C 16/455 ,  C23C 14/24

FI (3件)：

C23C14/12 ,  C23C16/455 ,  C23C14/24 S

Fターム (24件)：

4K029AA06 ,  4K029AA24 ,  4K029BA62 ,  4K029BB01 ,  4K029CA01 ,  4K029DA08 ,  4K029DB15 ,  4K029FA04 ,  4K029GA01 ,  4K029JA06 ,  4K030AA06 ,  4K030AA09 ,  4K030BA61 ,  4K030CA04 ,  4K030CA17 ,  4K030DA03 ,  4K030DA09 ,  4K030EA01 ,  4K030FA10 ,  4K030GA02 ,  4K030HA01 ,  4K030JA03 ,  4K030KA12 ,  4K030KA24