特許
J-GLOBAL ID：200903092135205530

ビスフェノール類の製造法

発明者：
井上 喜久光

井上 喜久光 について

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山川 英記

山川 英記 について

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山本 和明

山本 和明 について


出願人/特許権者：
住友化学工業株式会社

住友化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-026494
公開番号（公開出願番号）：特開2000-239204
出願日： 1999年02月03日
公開日（公表日）： 2000年09月05日
要約：
【要約】【課題】 特定構造のビスフェノール類を、高純度、高収率で、かつ簡便、経済的に製造する方法を提供する。【解決手段】炭素数6〜10の脂肪族炭化水素類および炭素数6〜12の芳香族炭化水素類から選ばれる溶媒中で、モノアルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム、アルキルジフェニルジスルホン酸ナトリウム、ジアルキルベンゼンスルホン酸ナトリウムおよびジアルキルスルホコハク酸ナトリウムから選ばれる陰イオン系界面活性剤の存在下に、式(II)R1-CHO (II)で示されるアルデヒドと、式(III)で示されるジアルキルフェノールとを縮合反応させることを特徴とする式(I)(式中、R1 は水素または炭素数1〜3のアルキル基を、R2およびR3はそれぞれ独立に炭素数1〜5のアルキル基を表す)で示されるビスフェノール類の製造法。
請求項（抜粋）：
炭素数6〜10の脂肪族炭化水素類および炭素数6〜12の芳香族炭化水素類から選ばれる溶媒中で、モノアルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム、アルキルジフェニルジスルホン酸ナトリウム、ジアルキルベンゼンスルホン酸ナトリウムおよびジアルキルスルホコハク酸ナトリウムから選ばれる陰イオン系界面活性剤の存在下に、式(II)R1-CHO (II)(式中、R1 は水素または炭素数1〜3のアルキル基を表す)で示されるアルデヒドと、式(III)(式中、R2およびR3はそれぞれ独立に炭素数1〜5のアルキル基を表す)で示されるジアルキルフェノールとを縮合反応させることを特徴とする式(I)(式中、R1 、R2 およびR3 は前記と同じ意味を有する)で示されるビスフェノール類の製造法。
IPC (3件)：
C07C 37/20 ,  C07C 39/16 ,  C07B 61/00 300
FI (3件)：
C07C 37/20 ,  C07C 39/16 ,  C07B 61/00 300
Fターム (20件)：
4H006AA02 ,  4H006AC20 ,  4H006AC25 ,  4H006AC42 ,  4H006AD15 ,  4H006BA35 ,  4H006BA36 ,  4H006BA37 ,  4H006BA52 ,  4H006BA66 ,  4H006BB11 ,  4H006BC10 ,  4H006BC11 ,  4H006BC19 ,  4H006BC31 ,  4H006BN30 ,  4H006FE13 ,  4H039CA19 ,  4H039CA60 ,  4H039CF30
引用特許：
審査官引用 (3件)

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