特許
J-GLOBAL ID：200903092231909327
水素および一酸化炭素の豊富なガスの製造方法および装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
江崎 光史 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-002955
公開番号（公開出願番号）：特開2001-213610
出願日： 2001年01月10日
公開日（公表日）： 2001年08月07日
要約：
【要約】【課題】 炭化水素供給原料の部分酸化によって水素および/または一酸化炭素の豊富なガスを製造する際に煤が生じるのを抑制する方法の提供。【解決手段】 この課題は、該方法が上部および下部を有する反応器において、少なくとも反応器上部の表面に炭化水素の水蒸気改質において活性である触媒材料を配置し;供給原料および酸素含有ガス体を反応器の上部に導入し;その反応器上部で供給原料を酸素で部分酸化し;そして部分酸化された供給原料の一部を反応器上部で改質触媒と接触させる各段階を含むことによって解決される。
請求項（抜粋）：
炭化水素供給原料の部分酸化によって水素および/または一酸化炭素の豊富なガスを製造する際に煤が生じるのを抑制する方法において、上部および下部を有する反応器において、少なくとも反応器上部の表面に炭化水素の水蒸気改質において活性である触媒材料を配置し;供給原料および酸素含有ガス体を反応器の上部に導入し;その反応器上部で供給原料を酸素で部分酸化し;そして部分酸化された供給原料の一部を反応器上部で改質触媒と接触させる各段階を含むことを特徴とする、上記方法。
引用特許：
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