特許

J-GLOBAL ID：200903092269578669

電子放出素子、電子源、画像形成装置の製造装置

発明者： 大西 敏一 ,  山本 敬介 ,  坂野 嘉和 ,  武田 俊彦 ,  丸山 朋子 ,  西村 三千代
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 渡辺 敬介 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-011165
公開番号（公開出願番号）：特開2000-149771
出願日： 1999年02月12日
公開日（公表日）： 2000年05月30日
要約：

【要約】【課題】 高品位な画像を形成し得る画像形成装置の電子ビーム源として応用される安定した電子放出特性を示す電子放出素子の製造装置を提供する。【解決手段】 一対の電極間の導電性膜にカーボン膜を有する電子放出素子の製造装置であって、一対の電極と該一対の電極間に配置された導電性膜とを有する基板を内包するための容器と、前記容器内を排気するための真空排気装置と、前記容器に接続され、該容器内に有機物質ガスを導入するためのガス導入ラインと、前記導入ラインの途中に設けられた水除去手段と、前記一対の電極間に電圧を印加するための電源とを備える電子放出素子の製造装置。

請求項（抜粋）：

一対の電極間の導電性膜にカーボン膜を有する電子放出素子の製造装置であって、一対の電極と該一対の電極間に配置された導電性膜とを有する基板を内包するための容器と、前記容器内を排気するための真空排気装置と、前記容器に接続され、該容器内に有機物質ガスを導入するためのガス導入ラインと、前記導入ラインの途中に設けられた水除去手段と、前記一対の電極間に電圧を印加するための電源とを備えることを特徴とする電子放出素子の製造装置。

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 電子放出素子の製造方法と、該製造方法にて製造される電子放出素子を用いた電子源及び画像形成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-137317   出願人：キヤノン株式会社