特許
J-GLOBAL ID：200903092310457440

レーザー装置

発明者：
平等 拓範

平等 拓範 について

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トライアン ダスカル

トライアン ダスカル について

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ニコライ パベル

ニコライ パベル について


出願人/特許権者：
独立行政法人 科学技術振興機構

独立行政法人 科学技術振興機構 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-313598
公開番号（公開出願番号）：特開2004-152817
出願日： 2002年10月29日
公開日（公表日）： 2004年05月27日
要約：
【課題】簡素な構造で、かつ機械的にも強固なレーザー装置を提供する。【解決手段】レーザー装置において、ヒートシンク部1上に貼り付けられる薄い板状のマイクロチップレーザー媒質2と、このレーザー媒質2上に同心状に配置される導波光学系3を備え、外部から入射される励起光5は前記導波光学系3内を全反射しながら前記導波光学系3と同心状に配置された前記レーザー媒質2で吸収され、吸収されなかった励起光は前記導波光学系3の周辺で反射され、再び前記レーザー媒質2で吸収されるように構成した。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
(a)ヒートシンク部上に貼り付けられる薄い板状のマイクロチップレーザー媒質と、 (b)該レーザー媒質上に同心状に配置される導波光学系を備え、 (c)外部から入射される励起光は前記導波光学系内を全反射しながら前記導波光学系と同心状に配置された前記レーザー媒質で吸収され、吸収されなかった励起光は前記導波光学系の周辺で反射され、再び前記レーザー媒質で吸収されるように構成したことを特徴とするレーザー装置。
IPC (2件)：
H01S3/093 ,  H01S3/06
FI (2件)：
H01S3/093 ,  H01S3/06
Fターム (12件)：
5F072AB01 ,  5F072AK01 ,  5F072AK03 ,  5F072JJ01 ,  5F072JJ03 ,  5F072JJ09 ,  5F072JJ12 ,  5F072KK02 ,  5F072KK26 ,  5F072PP07 ,  5F072PP10 ,  5F072TT30
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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