特許
J-GLOBAL ID:200903092388639048
転写用回折素子、その製造方法、及びそれを用いた回折素子パネルの製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
梅田 勝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-299916
公開番号(公開出願番号):特開平10-143056
出願日: 1996年11月12日
公開日(公表日): 1998年05月29日
要約:
【要約】【課題】 本発明は、三次元画像表示装置等に用いられ、精度が高く、広範囲に一度に作製でき、また基板の損傷を防止することができる転写用回折素子、その製造方法、及びそれを用いた回折素子パネルの製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】 感光材料131に接触しないように配置され、感光材料131の所望の領域にのみに回折パターンを転写するのに用いられる転写用回折素子101であって、所望の領域にのみに二種類以上の光212,213を入射させて回折パターンを発せさせるような干渉パターンが形成されている転写用回折素子101を構成する。
請求項(抜粋):
感光材料に接触しないように配置され、該感光材料の所望の領域にのみに回折パターンを転写するのに用いられる転写用回折素子であって、前記所望の領域にのみに二種類以上の光を入射させて前記回折パターンを発生させるような干渉パターンが形成されていることを特徴とする転写用回折素子。
IPC (3件):
G03H 1/20
, G02B 5/18
, G03H 1/26
FI (3件):
G03H 1/20
, G02B 5/18
, G03H 1/26
引用特許:
審査官引用 (1件)
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ホログラム作成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-049804
出願人:株式会社リコー
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