特許
J-GLOBAL ID：200903092404190404
ポリッシング装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡邉 勇 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-059933
公開番号（公開出願番号）：特開平10-235555
出願日： 1997年02月27日
公開日（公表日）： 1998年09月08日
要約：
【要約】【課題】 ポリッシング対象物を保持している保持部が研磨布表面のうねり等に追従して傾動可能な構造になっていて、且つ過度な傾動を防止することの出来るポリッシング装置を提供する。【解決手段】 上面に研磨布6を貼ったターンテーブル5とトップリング1とを有し、ターンテーブル5とトップリング1との間にポリッシング対象物4を介在させて所定の力で押圧することによって該ポリッシング対象物を研磨し、平坦且つ鏡面化するポリッシング装置において、ポリッシング対象物4をトップリング1の下端面内に保持するガイドリング3をトップリング1の周囲に上下動自在に配置し、ガイドリング3を研磨布6に対して押圧する押圧手段を設け、ガイドリング3の内周面には、トップリング1の外周面に係合して該トップリングを拘束するトップリング1の傾動抑制手段70を備えた。
請求項（抜粋）：
上面に研磨布を貼ったターンテーブルとトップリングとを有し、前記ターンテーブルとトップリングとの間にポリッシング対象物を介在させて所定の力で押圧することによって該ポリッシング対象物を研磨し、平坦且つ鏡面化するポリッシング装置において、前記ポリッシング対象物を前記トップリングの下端面内に保持するガイドリングをトップリングの周囲にトップリングとは独立して上下動可能であるように配置し、前記ガイドリングの内周面には、前記トップリングの外周面に係合して該トップリングを拘束するトップリングの傾動抑制手段を備えたことを特徴とするポリッシング装置。
引用特許：
前のページに戻る
