特許

J-GLOBAL ID：200903092444122959

位相シフトマスクの欠陥検査装置

発明者： 楠瀬 治彦
出願人/特許権者： レーザーテック株式会社
代理人 (1件)： 杉村 暁秀 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-339522
公開番号（公開出願番号）：特開平10-177246
出願日： 1996年12月19日
公開日（公表日）： 1998年06月30日
要約：

【要約】【課題】 位相シフトマスクの欠陥を正確に検出できる位相シフトマスクの欠陥検査装置を提供する。【解決手段】 本発明では、遮光パターンの表面からの反射光と光透過開口のガラス表面からの反射光との差分干渉像を撮像し、その差分干渉像の明るさの差から欠陥検査を行なう。このため、本発明による欠陥検査装置は、透明基板と、この透明基板上に形成され、複数の光透過開口を規定する遮光パターンとを具え、互いに隣接する光透過開口を透過する露光光間に位相差を与える位相シフタが形成されている位相シフトマスクの欠陥検査装置であって、コヒーレントな照明光を放出する光源と、この光源からの照明光により、前記遮光パターンの表面からの反射光と前記光透過開口の透明基板の表面からの反射光との差分干渉画像を形成する差分干渉光学系と、この差分干渉像を電子的な像に変換する画像検出器と、前記画像検出器の出力を基準画像情報と比較して位相シフトマスクの欠陥を検出する信号処理回路とを具えることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

透明基板と、この透明基板上に形成され、複数の光透過開口を規定する遮光パターンとを具え、互いに隣接する光透過開口を透過する露光光間に位相差を与える位相シフタが形成されている位相シフトマスクの欠陥検査装置であって、照明光を放出する光源と、この光源からの照明光により、前記遮光パターンの表面からの反射光と前記光透過開口の透明基板の表面からの反射光との差分干渉画像を形成する差分干渉光学系と、この差分干渉像を電子的な像に変換する画像検出器と、前記画像検出器の出力を基準画像情報と比較して位相シフトマスクの欠陥を検出する信号処理回路とを具えることを特徴とする位相シフトマスクの欠陥検査装置。

IPC (6件)：

G03F 1/08 ,  G01B 11/00 ,  G01B 11/30 ,  G01N 21/88 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/66

FI (6件)：

G03F 1/08 S ,  G01B 11/00 G ,  G01B 11/30 C ,  G01N 21/88 E ,  H01L 21/66 J ,  H01L 21/30 502 V

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 物体検査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-118324   出願人：株式会社ニコン