薄膜磁気ヘッド用基板とその製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：押田良久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-305862
公開番号（公開出願番号）：特開平10-134317
出願日： 1996年10月30日
公開日（公表日）： 1998年05月22日
要約：

【要約】【課題】簡単な工程で短時間で、溝深さが浅く、滑らかな面で読み取りエラーが生じ難い認識番号を付与できる薄膜ヘッド用基板とその製造方法の提供。【解決手段】樹脂又は金属にて形成された認識番号用被覆に対して、1〜5kgf/cm2の圧縮空気にて加速された粒径0.05〜5μmのビッカース硬さ1500以上の砥粒を吹きつけ加工することにより、被覆されていない部分に認識番号が刻印され、文字の再現性はフォトリソグラフィー技術を用いるため、IBEやRIE等と比較して遜色なく、文字深さは、圧縮空気の圧力および加工時間にて制御することができ、従来のレーザー加工で問題になっていたバリ3、加工変質層4もなく良好な認識番号を持った薄膜ヘッド用基板が得られる。

請求項（抜粋）：

Al2O3、TiC、SiC、ZrO2のうち少なくとも1種を含む成分にて構成される薄膜磁気ヘッド用基板において、所要面に深さ0.1〜3μm、線幅10〜20μmの溝にて認識番号が形成された薄膜磁気ヘッド用基板。

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開平4-102214
特開昭63-312626
特開平3-211718

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