特許
J-GLOBAL ID:200903092491810537
抗菌性高分子表面の生成方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
石川 徹
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-569193
公開番号(公開出願番号):特表2004-528418
出願日: 2002年02月26日
公開日(公表日): 2004年09月16日
要約:
【課題】本発明は、高分子材料の表面を高分子被覆で改質して、その表面を潤滑性かつ抗菌性にする方法である。【解決手段】本方法は、光重合開始剤で被覆された高分子材料をフリーラジカル重合可能な水溶性モノマーと共に定温放置し、定温放置している高分子材料にUV光を当てて、その高分子材料の改質表面を形成することを含む。本方法は、さらに、改質表面に銀成分を付加することを含む。該銀成分は、銀塩被覆として与えられるか、あるいは、アクリレート改質高分子材料の表面に結合したヒドロゲル内に含まれる銀塩として与えられる。
請求項(抜粋):
高分子材料の表面を改質する方法であって、
光重合開始剤で被覆された高分子材料をフリーラジカル重合可能な水溶性モノマーと共に定温放置し、
定温放置している高分子材料にUV光を当て、前記高分子材料の改質表面を形成することを特徴とする方法。
IPC (6件):
C08J7/18
, A61L15/16
, A61L27/00
, A61L29/00
, A61L31/00
, C08J7/06
FI (7件):
C08J7/18
, A61L27/00 E
, A61L27/00 U
, A61L29/00 Z
, A61L31/00 Z
, C08J7/06 Z
, A61L15/01
Fターム (57件):
4C081AA02
, 4C081AA12
, 4C081AB17
, 4C081AB32
, 4C081AC07
, 4C081AC08
, 4C081AC16
, 4C081BA14
, 4C081BB05
, 4C081CA032
, 4C081CA082
, 4C081CA131
, 4C081CA161
, 4C081CA181
, 4C081CA211
, 4C081CA231
, 4C081CA271
, 4C081CA281
, 4C081CC07
, 4C081CE01
, 4C081CG07
, 4C081DA01
, 4C081DA02
, 4C081DA03
, 4C081DA12
, 4C081DC03
, 4C081DC14
, 4C081EA02
, 4C081EA05
, 4C081EA06
, 4F006AA16
, 4F006AA35
, 4F006AA37
, 4F006AA38
, 4F006AA40
, 4F006AA42
, 4F006AB68
, 4F006AB72
, 4F006AB73
, 4F006AB74
, 4F006AB77
, 4F006BA09
, 4F006BA17
, 4F006CA09
, 4F006EA01
, 4F073AA09
, 4F073AA10
, 4F073BA16
, 4F073BA23
, 4F073BA28
, 4F073BA29
, 4F073BA32
, 4F073BA33
, 4F073BB02
, 4F073BB03
, 4F073CA25
, 4F073FA03
引用特許:
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