特許
J-GLOBAL ID：200903092492492350

ガス分析装置

発明者：
西村 克美

西村 克美 について

, 
池本 和幸

池本 和幸 について

, 
中嶋 嘉之

中嶋 嘉之 について


出願人/特許権者：
株式会社堀場製作所

株式会社堀場製作所 について


代理人 (1件)： 藤本 英夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-181645
公開番号（公開出願番号）：特開2000-002656
出願日： 1998年06月12日
公開日（公表日）： 2000年01月07日
要約：
【要約】【課題】ガス測定用セル,ガス導入管のヒータを個別に設けることなく、ガス導入管のサンプルガスの温度を一定に保持し、スペース的な制約をうけることなく、安価にする。【解決手段】 ガス測定用セル1の周面に装着されたヒータ7と、ヒータ7の温度を制御する温調器14と、ヒータ7により加熱され,一端がセル1のガス導入孔10に接続され,他端がサンプルガスラインに接続されたガス導入管9と、セル1,ヒータ7およびガス導入管9を覆った断熱材15とを備える。
請求項（抜粋）：
ガス測定用セルの周面に装着されたヒータと、当該ヒータの温度を制御する温調器と、前記ヒータにより加熱され,一端が前記セルのガス導入孔に接続され,他端がサンプルガスラインに接続されたガス導入管と、前記セル,前記ヒータおよび前記ガス導入管を覆った断熱材とを備えたことを特徴とするガス分析装置。
Fターム (8件)：
2G059AA01 ,  2G059BB01 ,  2G059DD12 ,  2G059DD16 ,  2G059EE01 ,  2G059HH01 ,  2G059JJ01 ,  2G059KK09
引用特許：
審査官引用 (3件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM