特許

J-GLOBAL ID：200903092498994013

半導体製造装置

発明者： 中谷 典一
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 宮田 金雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-022676
公開番号（公開出願番号）：特開平9-219388
出願日： 1996年02月08日
公開日（公表日）： 1997年08月19日
要約：

【要約】【課題】 ウエット処理装置おいて、同じ薬液で繰り返して処理を行うと、薬液中の不純物濃度が高くなり、薬液のエッチングレートが低下するという問題点があった。【解決手段】 薬液を循環する循環路4中に冷却機能付きフィルター5と、加熱装置6とを備える。【効果】 フィルター自身を冷却することにより薬液内の不純物をフィルターに付着して析出させることができ、薬液の性能の安定化および長寿命化の図れる半導体製造装置が得られる効果がある。

請求項（抜粋）：

処理槽と、上記処理槽内の薬液を循環させるためのポンプおよび循環路とを備えたウエット処理装置において、上記循環路中にフィルターと、上記フィルターを冷却する冷却手段と、冷却された上記薬液の温度を処理温度に戻す加熱手段と、を備えるようにしたことを特徴とする半導体製造装置。

IPC (3件)：

H01L 21/306 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304

FI (3件)：

H01L 21/306 J ,  H01L 21/304 341 T ,  H01L 21/304 341 Z

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭63-122223
  
• 湿式成膜装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-162054   出願人：株式会社荏原製作所