特許
J-GLOBAL ID:200903092540615095
半導体装置、半導体集積回路及び半導体装置の製造方法
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
藤巻 正憲
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-169321
公開番号(公開出願番号):特開2000-357695
出願日: 1999年06月16日
公開日(公表日): 2000年12月26日
要約:
【要約】【課題】 サージによるヘテロ接合バイポーラトランジスタの故障を防止することができる半導体装置、半導体集積回路、及び半導体装置の製造方法を提供する。【解決手段】 半導体装置には、ダイオード1及びヘテロ接合バイポーラトランジスタ(HBT)2が設けられている。ダイオード1のアノードはHBT2のエミッタ電極19に接続されており、ダイオード1のカソードはHBT2のコレクタ電極14に接続されている。また、HBT2のエミッタはエミッタ配線24に接続され、ベースはベース配線25に接続され、コレクタはコレクタ配線26に接続されている。
請求項(抜粋):
ヘテロ接合バイポーラトランジスタと、このヘテロ接合バイポーラトランジスタのコレクタ-エミッタ間に接続されたダイオードと、を有することを特徴とする半導体装置。
IPC (4件):
H01L 21/331
, H01L 29/73
, H01L 27/06
, H01L 29/205
FI (3件):
H01L 29/72
, H01L 27/06 101 P
, H01L 29/205
Fターム (18件):
5F003AP06
, 5F003BA92
, 5F003BF06
, 5F003BG06
, 5F003BH02
, 5F003BH05
, 5F003BH13
, 5F003BH16
, 5F003BH93
, 5F003BJ12
, 5F003BJ90
, 5F082AA33
, 5F082BC01
, 5F082BC03
, 5F082BC11
, 5F082DA02
, 5F082DA06
, 5F082GA04
引用特許:
審査官引用 (20件)
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特開平3-064929
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特開平4-023346
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特開平3-119746
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特開平1-218041
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特開平3-210817
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半導体装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-068833
出願人:シャープ株式会社
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特開平4-022163
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特開平2-158142
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ヘテロ接合バイポーラ・トランジスタ集積回路の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-244000
出願人:ソニー・テクトロニクス株式会社
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特開昭63-296412
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特開昭63-310134
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特開平4-023346
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特開平3-119746
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特開平3-210817
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特開平4-022163
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特開平2-158142
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特開昭63-296412
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特開昭63-310134
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特開平3-064929
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特開平1-218041
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