特許
J-GLOBAL ID：200903092603711871
合成石英ガラス光学体の改質方法 および合成石英ガラス光学体
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-065914
公開番号（公開出願番号）：特開平7-277755
出願日： 1994年04月04日
公開日（公表日）： 1995年10月24日
要約：
【要約】【目的】 紫外線リソグラフィー用の光学材料として用いることの出来るような高透過率、高均質、及び高い耐紫外線性を兼ね備えた合成石英ガラス光学体を提供すること。【構成】 SiO2の粉末から酸素ガスあるいは酸素ガスを含むガスを泡として分散させたシリカ母型を作り、この母型で高純度合成石英ガラス光学体の表面を完全にカバーし、加圧下で昇温し一定時間高温保持した後徐冷する。
請求項（抜粋）：
高純度透明合成石英ガラス光学体の改質方法において、SiO2の粉末から作った、酸素ガスあるいは酸素ガスを含むガスを泡として分散させた母型中で、熱処理することを特徴とする合成石英ガラス光学体の改質方法。
IPC (4件)：
C03B 32/00
, C03B 20/00
, C03C 3/06
, G02B 1/00
