特許
J-GLOBAL ID：200903092608555177
荷電粒子ビーム露光方法及び装置並びに処理時間予測方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
北野 好人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-093368
公開番号（公開出願番号）：特開平10-284362
出願日： 1997年04月11日
公開日（公表日）： 1998年10月23日
要約：
【要約】【課題】 露光不良がなく最短の露光時間で試料を露光することが可能な荷電粒子ビーム露光装置及びその露光方法を提供する。また、上記の荷電粒子ビーム露光装置における処理時間を予測する処理時間予測方法及び装置を提供する。【解決手段】 配置データと、パターンデータと、パターンデータの粗密情報を含む2次データとに基づいてスキャン速度を決定し、露光パターンを試料に描画する荷電粒子ビーム露光方法において、露光開始操作と連動して、露光処理に先立ち、荷電粒子ビームの電流密度情報を少なくとも有する装置情報を参照し、配置データと、2次データと、装置情報とに基づいて試料の速度分布を有する速度データを生成し、生成された速度データに従って試料を可変速度で移動させながらパターンデータに従って試料上に荷電粒子ビームを照射する。
請求項（抜粋）：
試料上における露光パターンの配列情報を含む配置データと、前記露光パターンを含むパターンデータと、前記パターンデータの粗密情報を含む2次データとに基づいて描画するための前記試料のスキャン速度を決定し、前記露光パターンを前記試料に描画する荷電粒子ビーム露光方法において、露光開始操作と連動して、露光処理に先立ち、荷電粒子ビームの電流密度情報を少なくとも有する装置情報を参照し、前記配置データと、前記2次データと、前記装置情報とに基づいて前記試料の移動方向の速度分布を有する速度データを生成する工程と、生成された前記速度データに従って前記試料を可変速度で移動させながら、前記パターンデータに従って前記試料上に荷電粒子ビームを照射する工程とを有することを特徴とする荷電粒子ビーム露光方法。
引用特許：
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