計算機を用いたパターン評価方法およびパターン生成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：三好秀和 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-171757
公開番号（公開出願番号）：特開2000-012426
出願日： 1998年06月18日
公開日（公表日）： 2000年01月14日
要約：

【要約】【課題】電子ビームのつなぎを考慮した高精度のパターン評価を可能にすること。【解決手段】レジストと基板で構成される試料をメッシュに分割してモンテカルロシミュレーションを施すことにより蓄積エネルギーのテーブル化を行う。露光パターンから所望のCPパターンを抜き出し、このCPパターンに対する潜像分布計算を前記テーブル化データに基いて行ってから、2つのCPパターンをずらして潜像分布を重ね合わせた後、これを現像計算して計算によるレジストの現像パターンを得、このパターンの寸法を測定することによりCPパターンのずれに対する露光マージンの評価を行う。

請求項（抜粋）：

レジストおよび基板を含む試料をメッシュに分割してモンテカルロシミュレーションを施して各メッシュ毎の電子ビームによる蓄積エネルギーを求めてテーブル化する過程と、所望の露光パターンを複数の小領域に分割する過程と、前記所望の露光パターンの電子ビームの照射結果として、前記分割された各小領域に対する電子ビームによる蓄積エネルギー計算を前記テーブル化したデータを用いて行なう過程と、少なくとも2つ以上の小領域の位置を変化させて加算し、この加算パターンの蓄積エネルギーを計算する過程と、前記計算されたパターンの蓄積エネルギー分布から現像計算を行なう過程と、この現像計算結果のパターンの任意の部分を指定して寸法測定を行なう過程とを備えることを特徴とする計算機を用いたパターン評価方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G01B 15/00 , G03F 7/20 504 , H01L 21/66

FI (4件)：

H01L 21/30 541 M , G01B 15/00 B , G03F 7/20 504 , H01L 21/66 J

Fターム (28件)：

2F067AA21 , 2F067AA54 , 2F067BB04 , 2F067CC16 , 2F067CC17 , 2F067HH06 , 2F067KK06 , 2F067KK07 , 2F067MM02 , 2F067RR04 , 2H097BB01 , 2H097CA16 , 2H097LA10 , 4M106AA20 , 4M106AD11 , 4M106BA20 , 4M106CA39 , 5F056AA06 , 5F056AA31 , 5F056CA02 , 5F056CA05 , 5F056CA07 , 5F056CA30 , 5F056CC07 , 5F056CC12 , 5F056CC13 , 5F056CD11 , 5F056CD13

引用特許：

審査官引用 (1件)

荷電ビーム露光における位置決め方法および線幅測定方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-044906 出願人：ソニー株式会社

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