特許

J-GLOBAL ID：200903092623035473

疎水性二酸化珪素微粉末の製造方法及び製造装置

発明者： 野沢 保明 ,  白砂 潔 ,  秋山 昌律 ,  松澤 隆行
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 小島 隆司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-262219
公開番号（公開出願番号）：特開2002-068726
出願日： 2000年08月31日
公開日（公表日）： 2002年03月08日
要約：

【要約】【解決手段】 シラン化合物の熱分解によって生成した二酸化珪素微粉末をオルガノハロシランにより流動槽で疎水化処理する疎水性二酸化珪素微粉末の製造方法において、流動槽から飛散する疎水化処理された二酸化珪素微粉末を100〜500°Cに保持されたサイクロン及びバグフィルターで捕集することを特徴とする疎水性二酸化珪素微粉末の製造方法。【効果】 本発明によれば、流動槽からの飛散シリカをサイクロン、バグフィルターで回収する。これらの装置を100°C以上に保持するという容易な制御条件で、飛散シリカをほぼ100%回収できる。これにより、製品の歩留まりが上がり、廃ガス処理の負担が軽減される。

請求項（抜粋）：

シラン化合物の熱分解によって生成した二酸化珪素微粉末をオルガノハロシランにより流動槽で疎水化処理する疎水性二酸化珪素微粉末の製造方法において、流動槽から飛散する疎水化処理された二酸化珪素微粉末を100〜500°Cに保持されたサイクロン及びバグフィルターで捕集することを特徴とする疎水性二酸化珪素微粉末の製造方法。

IPC (5件)：

C01B 33/18 ,  B01J 2/00 ,  B01J 19/00 ,  C09C 1/28 ,  C09C 3/12

FI (5件)：

C01B 33/18 C ,  B01J 2/00 A ,  B01J 19/00 N ,  C09C 1/28 ,  C09C 3/12

Fターム (35件)：

4G004AA01 ,  4G072AA41 ,  4G072BB05 ,  4G072GG03 ,  4G072GG04 ,  4G072HH28 ,  4G072HH30 ,  4G072MM03 ,  4G072QQ07 ,  4G072QQ09 ,  4G072RR01 ,  4G072RR11 ,  4G072RR17 ,  4G072UU07 ,  4G072UU09 ,  4G072UU30 ,  4G075AA27 ,  4G075BA05 ,  4G075BD14 ,  4G075CA02 ,  4G075CA57 ,  4G075CA66 ,  4G075DA01 ,  4G075DA13 ,  4G075EA01 ,  4G075EA06 ,  4G075EB01 ,  4G075EC25 ,  4J037AA18 ,  4J037CB23 ,  4J037DD25 ,  4J037EE14 ,  4J037EE33 ,  4J037EE44 ,  4J037FF15

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特公昭61-050882
  
• 無機質球状化粒子の製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-246148   出願人：日本酸素株式会社
• 球状シリカ粒子及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-256883   出願人：電気化学工業株式会社