位相シフトフォトマスクブランクス生産方法

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：北村欣一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-200734
公開番号（公開出願番号）：特開平7-056316
出願日： 1993年08月12日
公開日（公表日）： 1995年03月03日
要約：

【要約】【目的】所望の位相シフト量を持った位相シフト膜を精度よく生産することができる方法を提供する。【構成】初期成膜工程において基板上に光の位相をシフトさせる位相シフト膜を成膜(5、9)し、その位相シフト膜の位相シフト量と屈折率とを測定し、ねらい目とする位相シフト量からの誤差位相シフト量を求め、不足分(6)は前記誤差位相シフト量と単位成膜時間当たりの位相シフト量の変化量とから追加成膜時間を算出して追加成膜(d3)をし、超過分(11)は前記誤差位相シフト量と単位膜厚当たりの位相シフト量とから超過膜厚(d6)を算出してこの超過膜厚分をエッチングする位相シフトフォトマスクブランクス生産方法。【効果】位相シフト膜の誤差分を追加成膜又はエッチングを時間管理により行って、補償することができるので、精度の良い位相シフトフォトマスクブランクスを簡単に生産することができる。

請求項（抜粋）：

光透過性材料から成る基板上に光の位相をシフトさせる位相シフト膜を成膜する初期成膜工程と、前記位相シフト膜の位相シフト量を測定する位相シフト量測定工程と、前記位相シフト膜の膜厚を調節して前記位相シフト量を目標位相シフト量とする位相シフト量調節工程とから成る位相シフトフォトマスクブランクス生産方法であって、前記位相シフト量測定工程は、前記位相シフト量の測定値が目標位相シフト量より不足している量である不足位相シフト量を求める工程と、初期成膜工程の成膜時間と位相シフト量の測定値とから単位成膜時間当たりの位相シフト量の変化量を求める工程とを含み、前記位相シフト量調節工程は、前記不足位相シフト量と前記変化量とから追加成膜時間を算出して位相シフト膜を追加成膜する工程を含むことを特徴とする位相シフトフォトマスクブランクス生産方法。

引用特許：

出願人引用 (2件)

特開平4-125642
位相変化量測定装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-310306 出願人：株式会社ニコン

審査官引用 (2件)

特開平4-125642
位相変化量測定装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-310306 出願人：株式会社ニコン

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