特許
J-GLOBAL ID：200903092667239432

ジルコニウムアルコキシトリス(β-ジケトネート)とその製造方法およびPZT膜形成用液体組成物

発明者：
門倉 秀公

門倉 秀公 について

, 
奥原 弓恵

奥原 弓恵 について


出願人/特許権者：
株式会社高純度化学研究所

株式会社高純度化学研究所 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-370762
公開番号（公開出願番号）：特開2001-151782
出願日： 1999年11月19日
公開日（公表日）： 2001年06月05日
要約：
【要約】【課題】Pb(dpm)2を使ったPZT成膜にZr化合物として、Pb(dpm)2と反応性が低く、Zr(dpm)4より熱分解温度が低く、酢酸ブチルやトルエンの溶媒にも良く溶けるという性質を持った化合物およびその製造方法を提供する。さらにその化合物を用いたPZT膜形成用液体組成物を提供する。【解決手段】新規化合物Zr(OiPr)(dpm)3は0.1Torr/160°Cの昇華圧を持ち、400°CのCVDでZrO2膜を形成できる。それはZr(OiPr)41モルとdpmH3モルとを有機溶媒中で反応させ、昇華精製して得られる。Pb(dpm)2とZr(OiPr)(dpm)3とTi(OiPr)2(dpm)2の三成分を溶解した酢酸ブチル溶液は長いポットライフを有し、溶液フラッシュ法CVDでPZT膜を形成できる。
請求項（抜粋）：
Zr(OR)(L)3 ・・・・・・・・・・ 式I(Rは炭素数1〜5のアルキル基、Lはβ-ジケトネートを表す)で表される化合物。
IPC (2件)：
C07F 7/00 ,  C23C 16/18
FI (2件)：
C07F 7/00 A ,  C23C 16/18
Fターム (18件)：
4H049VN01 ,  4H049VP06 ,  4H049VQ24 ,  4H049VR23 ,  4H049VR41 ,  4H049VS21 ,  4H049VU24 ,  4H049VU36 ,  4H049VV01 ,  4H049VW02 ,  4H049VW05 ,  4K030AA11 ,  4K030BA01 ,  4K030BA22 ,  4K030BA42 ,  4K030BA46 ,  4K030CA04 ,  4K030LA15
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • 特開昭62-129375
  • 金属錯体を原料とする試薬
    公報種別：公表公報   出願番号：特願平9-501754   出願人：アドバンスド.テクノロジー.マテリアルズ.インコーポレイテッド
審査官引用 (2件)
  • 特開昭62-129375
  • 金属錯体を原料とする試薬
    公報種別：公表公報   出願番号：特願平9-501754   出願人：アドバンスド.テクノロジー.マテリアルズ.インコーポレイテッド
引用文献：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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