特許
J-GLOBAL ID：200903092704906126

生産管理方法

発明者：
山口 新吾

山口 新吾 について


出願人/特許権者：
松下電器産業株式会社

松下電器産業株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人池内・佐藤アンドパートナーズ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-092572
公開番号（公開出願番号）：特開2003-288112
出願日： 2002年03月28日
公開日（公表日）： 2003年10月10日
要約：
【要約】【課題】 ダミーランの回数と処理時間を削減し、装置の稼動率を向上でき、ひいてはロットのリードタイムを短縮できるとともに、ダミーランに使用するダミーウエハを削減することでコストを削減できる生産管理方法を提供する。【解決手段】 処理条件が異なる複数の製造工程を同一の処理室で処理する製造装置において、予め製造工程における製品あるいは製造装置の汚れ具合の指標である汚染度を定め、製造工程において製品を処理した後における製品あるいは製造装置の汚染度を設定して第一の記憶装置に記録し、第一の記憶装置に記録されている汚染度が同一である複数の製品を1つの汚染グループとしてグループ化し、汚染グループごとに製品を第二の記憶装置に記録し、第二の記憶装置に記録されている汚染グループごとに製造工程における処理の実行を指示する。
請求項（抜粋）：
処理条件が異なる複数の製造工程を同一の処理室で処理する製造装置において、予め前記製造工程における製品あるいは前記製造装置の汚れ具合の指標である汚染度を定め、前記製造工程において前記製品を処理した後における前記製品あるいは前記製造装置の前記汚染度を設定して第一の記憶装置に記録する工程と、前記第一の記憶装置に記録されている前記汚染度が同一である複数の前記製品を1つの汚染グループとしてグループ化し、前記汚染グループごとに前記製品を第二の記憶装置に記録する工程と、前記第二の記憶装置に記録されている前記汚染グループごとに前記製造工程における処理の実行を指示する工程とを含むことを特徴とする生産管理方法。
IPC (2件)：
G05B 19/418 ,  G06F 17/60 108
FI (2件)：
G05B 19/418 Z ,  G06F 17/60 108
Fターム (5件)：
3C100AA22 ,  3C100AA29 ,  3C100BB12 ,  3C100BB33 ,  3C100EE06
引用特許：
審査官引用 (3件)

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