特許

J-GLOBAL ID：200903092738198767

光学式スケール装置及び光学式ロータリースケール装置

発明者： 大河内 禎一 ,  ▲福▼井 寿男
出願人/特許権者： 大河内 禎一 ,  ▲福▼井 寿男 ,  学校法人愛知学院大学
代理人 (1件)： 加藤 卓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-034427
公開番号（公開出願番号）：特開2001-221659
出願日： 2000年02月14日
公開日（公表日）： 2001年08月17日
要約：

【要約】【課題】 測定対象物の寸法、位置ないし移動量を光学的に測定する光学的スケール装置において、スケールの目盛のそれぞれの原点からの寸法値が高精度に設定されていなくても、測定を高精度に行なえるようにする。【解決手段】 リニアスケール1の表面上をCCDカメラ3が測定対象物の寸法ないし位置に応じて移動され、スケール1の表面においてカメラ3に対向する部分の目盛線11の画像を撮影し、パソコン4に入力する。パソコン4では、入力された画像においてカメラ3の視野内の特定の測定点と目盛線11の位置関係を認識し、これと、パソコン4の外部メモリに記憶されたスケール1の原点Oからの目盛線11のそれぞれの寸法値の実測値とに基づいて、原点Oからの前記測定点の寸法値を求める処理が行なわれる。

請求項（抜粋）：

表面に目盛群を形成したスケールと、前記目盛群の原点からの前記目盛のそれぞれの寸法値の実測値を記憶した記憶手段と、前記スケールの表面上で測定対象物の寸法ないし位置に応じて前記スケールに対し相対的に移動される撮像手段であって、前記スケールの表面において該撮像手段に対向する部分の前記目盛の画像を撮影する撮像手段と、該撮像手段により撮影された前記目盛の画像において該撮像手段の視野内の特定の測定点と前記目盛の位置関係を認識し、該位置関係と、前記記憶手段に記憶された前記原点からの前記目盛のそれぞれの寸法値の実測値とに基づいて、前記原点からの前記測定点の寸法値を求める処理を行なう処理手段を有することを特徴とする光学式スケール装置。

IPC (4件)：

G01D 5/26 ,  G01B 11/00 ,  G01B 11/26 ,  G01D 5/34

FI (4件)：

G01D 5/26 K ,  G01B 11/00 H ,  G01B 11/26 H ,  G01D 5/34 D

Fターム (42件)：

2F065AA02 ,  2F065AA09 ,  2F065AA14 ,  2F065AA39 ,  2F065BB13 ,  2F065BB15 ,  2F065BB16 ,  2F065BB28 ,  2F065DD03 ,  2F065EE01 ,  2F065FF16 ,  2F065FF17 ,  2F065FF19 ,  2F065FF42 ,  2F065GG10 ,  2F065HH13 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ25 ,  2F065LL47 ,  2F065MM03 ,  2F065MM04 ,  2F065QQ04 ,  2F065QQ17 ,  2F065QQ23 ,  2F065QQ28 ,  2F065QQ42 ,  2F065UU08 ,  2F103BA01 ,  2F103BA32 ,  2F103BA37 ,  2F103CA07 ,  2F103DA07 ,  2F103DA12 ,  2F103DA13 ,  2F103EA02 ,  2F103EA12 ,  2F103EA15 ,  2F103EA19 ,  2F103EA22 ,  2F103EB14 ,  2F103EC13 ,  2F103ED11

引用特許：

審査官引用 (3件)

• エンコード板およびその製造方法並びにそのエンコード板を使用した撮像式絶対位置検出装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-197519   出願人：ソニー株式会社
• 特開昭63-187118
  
• 二次元アブソリュートエンコーダおよび二次元位置測定装置並びに二次元位置測定方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-052161   出願人：ジャパン・イー・エム株式会社