特許
J-GLOBAL ID：200903092774004812

微細構造の形成方法及び光学素子の製造方法

発明者：
岩崎 裕一

岩崎 裕一 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 日比谷 征彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-065641
公開番号（公開出願番号）：特開2000-258607
出願日： 1999年03月11日
公開日（公表日）： 2000年09月22日
要約：
【要約】【課題】 微細構造により、反射防止膜構造を得る。【解決手段】 (a)に示すようにBOE形状が成形されたBOE121の裏面にレジスト膜122を成膜し、BOE形状の形成されたBOE121上にはクロム123を電子ビーム蒸着法を用いて、成膜することにより、直径約50nm、間隔約80nmの島構造124を形成することができる。続いて、(b)に示すように島構造124をマスクとし、BOE121をエッチング液により深さ55nmエッチングし、錐状の微細構造125を形成する。更に、(c)に示すように、エッチング液を用いて、ウエットエッチングすることによりマスクとして使用した島構造124を除去する。そして、BOE121の裏面に形成したレジスト膜124をレジスト剥離液を用いて除去する。このようにして形成された微細構造125は、波長λ=248nmの入射光に対し、反射率が1%以下の反射防止効果を得る。
請求項（抜粋）：
物体の表面に、薄膜の形成過程における核成長の形態において形成される核又は島構造をエッチングマスクとして形成し、該エッチングマスクを介して前記物体の表面にエッチングを行うことを特徴とする微細構造の形成方法。
IPC (4件)：
G02B 1/11 ,  C03C 15/00 ,  G02B 5/18 ,  H01L 21/3065
FI (4件)：
G02B 1/10 A ,  C03C 15/00 ,  G02B 5/18 ,  H01L 21/302 J
Fターム (26件)：
2H049AA18 ,  2H049AA37 ,  2H049AA45 ,  2H049AA48 ,  2H049AA55 ,  2H049AA64 ,  2K009AA05 ,  2K009BB02 ,  2K009BB04 ,  2K009CC03 ,  2K009DD12 ,  2K009EE00 ,  4G059AA08 ,  4G059AA11 ,  4G059AB06 ,  4G059AC04 ,  4G059BB01 ,  5F004DA16 ,  5F004DB00 ,  5F004EA01 ,  5F004EA04 ,  5F004EA05 ,  5F004EA10 ,  5F004EA22 ,  5F004EA37 ,  5F004EB06
引用特許：
審査官引用 (5件)
  • 微細パターンの形成方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-230485   出願人：シーメンスアクチエンゲゼルシヤフト
  • 特開平3-266460
  • 特開昭62-069407
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