特許

J-GLOBAL ID：200903092789283530

微細凹凸パタ-ン付き基板

発明者： 南 努 ,  辰巳砂 昌弘 ,  松田 厚範 ,  大原 柊三 ,  北村 良一
出願人/特許権者： 五洋紙工株式会社 ,  南 努 ,  辰巳砂 昌弘 ,  松田 厚範
代理人 (1件)： 伊丹 健次
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-015702
公開番号（公開出願番号）：特開2000-216417
出願日： 1999年01月25日
公開日（公表日）： 2000年08月04日
要約：

【要約】【課題】 型の反転形状を正確に転写できるとともに、膜状物の屈折率を自由に制御することができ、更には厚膜化が可能となり、耐熱性にも優れ、例えば太陽電池用基板や反射板など光学部材として有用な微細凹凸パターン付き基板を提供する。【解決手段】 基板上及び/又は微細な凹凸パターンを有する型上に、オルガノアルコキシシランの加水分解・重縮合物を含む溶液を塗布して膜状物を形成し、次いで該基板と該型とを接合加圧して該膜状物を硬化させた後、離型を行うことにより、該型の反転形状からなる微細凹凸パターンを該膜状物に転写形成してなる微細凹凸パターン付き基板において、前記オルガノアルコキシシランの加水分解・重縮合物がフェニルトリアルコキシシランとメチルトリアルコキシシランの共加水分解・重縮合物であることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

基板上及び/又は微細な凹凸パターンを有する型上に、オルガノアルコキシシランの加水分解・重縮合物を含む溶液を塗布して膜状物を形成し、次いで該基板と該型とを接合加圧して該膜状物を硬化させた後、離型を行うことにより、該型の反転形状からなる微細凹凸パターンを該膜状物に転写形成してなる微細凹凸パターン付き基板において、前記オルガノアルコキシシランの加水分解・重縮合物がフェニルトリアルコキシシランとメチルトリアルコキシシランの共加水分解・重縮合物であることを特徴とする微細凹凸パターン付き基板。

IPC (5件)：

H01L 31/04 ,  B05D 5/06 104 ,  C03C 17/32 ,  G02B 5/02 ,  H01M 14/00

FI (5件)：

H01L 31/04 M ,  B05D 5/06 104 J ,  C03C 17/32 Z ,  G02B 5/02 C ,  H01M 14/00 P