特許
J-GLOBAL ID：200903092879597231
描画光学系
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三浦 邦夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-302814
公開番号（公開出願番号）：特開平10-142534
出願日： 1996年11月14日
公開日（公表日）： 1998年05月29日
要約：
【要約】【目的】 光偏向器に、記録情報に基づいて変調される描画光と、モニタ光とを入射させ、該モニタ光の偏向光路上に置いたスケール板により、描画光の変調制御用のクロックパルスを発生させる描画光学系であって、描画光光路とモニタ光光路の少なくとも一方の光路には、光偏向器による主走査方向に長い反射ミラーが配置されている描画光学系において、この反射ミラーの形状精度の悪化により描画性能が悪化しない描画光学系を得る。【構成】 描画光光路とモニタ光光路の少なくとも一方の光路に設けた反射ミラーの反射面形状を補正する面形状補正機構を設けた描画光学系。
請求項（抜粋）：
光偏向器に、記録情報に基づいて変調される描画光と、モニタ光とを入射させ、該モニタ光の偏向光路上に置いたスケール板により、描画光の変調制御用のクロックパルスを発生させる描画光学系であって、上記描画光光路とモニタ光光路の少なくとも一方の光路には、上記光偏向器による主走査方向に長い反射ミラーが配置されている描画光学系において、この反射ミラーの反射面形状を補正する面形状補正機構を設けたことを特徴とする描画光学系。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G02B 26/10 A
, H04N 1/04 104 Z
審査官引用 (1件)
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投写型表示装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平4-279968
出願人：チノン株式会社
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