特許
J-GLOBAL ID:200903092893379786

デンプン含有化粧品組成物および洗浄組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山川 政樹 (外5名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-504787
公開番号(公開出願番号):特表2000-514435
出願日: 1997年07月07日
公開日(公表日): 2000年10月31日
要約:
【要約】C2-C5ヒドロキシアルキルデンプンとC2-C18アシルデンプンとから選択される糊化、橋かけデンプンを含有する水溶液相を含む、皮膚、歯もしくは毛髪の洗浄用もしくは手入れ用組成物、またはスムース面洗浄用組成物について記述するものである。ヒドロキシプロピルジスターチホスフェート、またはジスターチ-C4 C18-アルカノエートもしくはアルケノエートが好ましい。デンプンは、1)安定性向上剤、2)粘度調整剤、3)乳化(助)剤、4)肌ざわり向上剤、および5)整髪特性向上剤として作用する。
請求項(抜粋):
C2-C5ヒドロキシアルキルデンプンとC2-C18アシルデンプンとから選択される糊化、橋かけデンプンを含有する水溶液相を含む、皮膚、歯もしくは毛髪の洗浄用もしくは手入れ用組成物、またはスムース面洗浄用組成物。
IPC (3件):
A61K 7/50 ,  A61K 7/075 ,  C11D 3/22
FI (3件):
A61K 7/50 ,  A61K 7/075 ,  C11D 3/22
引用特許:
審査官引用 (3件)

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