特許
J-GLOBAL ID：200903092964474432
異物分析装置及び半導体製造制御装置並びに異物分析方法及び半導体製造制御方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
曾我 道照 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-258399
公開番号（公開出願番号）：特開平8-124982
出願日： 1994年10月24日
公開日（公表日）： 1996年05月17日
要約：
【要約】【目的】 熟練した分析者の高度な判断を必要とすることなく、多数の異物に対して迅速に分析を行うことができる異物分析装置を提供する。【構成】 半導体ウエハに付着した複数の異物について元素ごとの組成比を求める走査型電子顕微鏡(SEM)2と、SEM2の分析結果に基づき組成比ごとの異物の分布を求める異物プロット部10と、この異物の分布に基づき複数の異物を分類する異物分類処理部11と、この異物分類結果と予め定められた異物データベース13の内容とを比較することにより異物の種類を特定する異物特定処理部12とを備える。
請求項（抜粋）：
半導体ウエハに付着した複数の異物について元素ごとの組成比を求める分析部と、上記分析部の分析結果に基づき組成比ごとの上記複数の異物の分布を求める異物分布作成部と、上記異物分布作成部が作成した分布に基づき上記複数の異物を分類する異物分類処理部と、上記異物分類処理部の異物分類結果と予め定められた異物データとを比較することにより異物の種類を特定する異物特定処理部とを備えた異物分析装置。
IPC (3件)：
H01L 21/66
, G01N 21/88
, G01N 23/223
