特許

J-GLOBAL ID：200903092982295294

ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： 佐藤 健一郎 ,  青合 利明
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-043974
公開番号（公開出願番号）：特開平10-239846
出願日： 1997年02月27日
公開日（公表日）： 1998年09月11日
要約：

【要約】【課題】 170nm〜220nmという波長領域の光に対して十分好適であり、かつ光に対して高感度で、得られるレジストパターンプロファイルが優れ、且つ基板との密着性が優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供することにある。【解決手段】 特定のエステル基を分子内に有し、且つ酸の作用により分解しアルカリ溶液に対する溶解性が増加する樹脂と活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有するポジ型フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

下記一般式〔I〕で表されるエステル基を分子内に有し、且つ酸の作用により分解しアルカリ溶液に対する溶解性が増加する樹脂と、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】(式中、R1 〜R4 は、同じでも異なってもよく、水素原子又はアルキル基を表す。mは1又は2を表す。

IPC (3件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 化学増幅型ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-012406   出願人：住友化学工業株式会社
• 化学増幅型ホトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-011581   出願人：東京応化工業株式会社