特許
J-GLOBAL ID：200903093014435518
研磨スラリーの再生システム
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
安倍 逸郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-339063
公開番号（公開出願番号）：特開2000-158343
出願日： 1998年11月30日
公開日（公表日）： 2000年06月13日
要約：
【要約】【構成】 研磨機で使用済みの廃研磨スラリーのpH値を検出し、この検出値に基づき廃研磨スラリーにアルカリ成分を供給し、該pH値を最適値に調整するpH値調整手段と、該廃研磨スラリーのゼータ電位を検出し、このゼータ電位検出値に基づいて廃研磨スラリーに純水を供給することにより、該ゼータ電位を最適値に調整するゼータ電位調整手段と、該廃研磨スラリーの粒度分布を検出し、この粒度分布検出値に基づいて、廃研磨スラリーに新たな研磨スラリーを供給することにより粒度分布を最適値に調整する粒度分布調整手段とを有する研磨スラリーの再生システムである。【効果】 新たに使用する研磨スラリー量が削減されるため、ウェーハの製作コストの低減および省資源に有効である。また、システムの自動化を図ることが出来るばかりでなく、廃棄物の排出量が削減される等、優れた効果を有する。
請求項（抜粋）：
研磨機で使用済みの廃研磨スラリーを再生する研磨スラリーの再生システムであって、この廃研磨スラリーのpH値を検出するpH値検出手段と、この廃研磨スラリーのゼータ電位を検出するゼータ電位検出手段と、この廃研磨スラリーの粒度分布を検出する粒度分布検出手段とを備え、検出したpH値に基づいて廃研磨スラリーにアルカリ成分を供給することにより、このpH値を最適値に調整するpH値調整手段と、検出したゼータ電位に基づいて廃研磨スラリーに純水を供給することにより、このゼータ電位を最適値に調整するゼータ電位調整手段と、検出した粒度分布に基づいて廃研磨スラリーに新たな研磨スラリーを供給することにより粒度分布を最適値に調整する粒度分布調整手段とを有する研磨スラリーの再生システム。
IPC (2件)：
B24B 57/02
, H01L 21/304 622
B24B 57/02
, H01L 21/304 622 E
